Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
Robust 2D patterns process variability assessment using CD-SEM contour extraction offline metrology
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BSO - Titre
Robust 2D patterns process variability assessment using CD-SEM contour extraction offline metrology
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DOI
DOI
10.1117/12.2257876
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DOAI
DOAI
10.1117/12.2257876
XX
Identifiant WoS
WOS:000404912400038
XX
Accès ouvert
OA - Non
XX
Source - Accès ouvert
OA - Non
XX
Type d'accès
Non OA
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Editeur
SPIE
XX
Source
METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL FOR MICROLITHOGRAPHY XXXI
XX
ISSN
0277-786X
XX
Type de document
Meeting Abstract
XX
Notoriété
0 - Sans notoriété
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INSIS - Institut des sciences de l'ingénierie et des systèmes
XX
uid:/KGXDX9W2
12/10/2021 14:52:46 (latest)
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